广州微纳光刻材料科技有限公司创立于2020年,是广东省内唯一家专业开发90 nm-28 nm制程高端半导体芯片制造用193n m光刻胶及相关材料的高科技公司,为中芯国际、广州粤芯公司等客户定制光刻胶。
公司的ArF国产光刻胶研发项目始于2016年,创始人首先在珠海横琴创立的光刻胶树脂公司自主研发,配方在上海、北京等地的客户生产线的ASML光刻机上(90 nm、55n m、28 nm)进行了大量的评估,其ArF光刻胶的关键技术指标,如DOF等,已超过现有头部梯队商用产品,在国内处于领先地位。总部设立于广州南沙区,并在珠海、上海设有研发中心和实验室。